2. 下列过程对应的离子方程式正确的是
参考答案
D
2024_全国卷 (化学)
2. 下列过程对应的离子方程式正确的是
D
【答案】D
【解析】
【详解】A.玻璃的主要成分为SiO2,用氢氟酸刻蚀玻璃时,SiO2 和氢氟酸反应生成 SiF4 气体和水,反应
的方程式为 $SiO2+4HF=SiF4$↑+2H2O,A 错误;
B.Fe3+可以将Cu 氧化成 Cu2+,三氯化铁刻蚀铜电路板时反应的离子方程式为 $2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+$,B
错误;
C.氯气具有强氧化性,可以氧化硫代硫酸根成硫酸根,氯气被还原为氯离子,反应的离子方程式为S2O
$23-+4Cl2+5H2O=2SO 24-+8Cl-+10H+$,C 错误;
D.碳酸钙的溶解度小于硫酸钙,可以用碳酸钠溶液浸泡水垢使硫酸钙转化为疏松、易溶于酸的碳酸钙,
反应的离子方程式为 $2- 2-4 3 3 4CaSO +CO =CaCO +SO$,D 正确;
故答案选 D。