下列过程对应的离子方程式正确的是——2024 高考化学第 2 题答案解析

2024_全国卷 (化学)

2024 全国 第 2 题 单选题 区分题
2024_全国卷 (化学)

2. 下列过程对应的离子方程式正确的是

A. 用氢氟酸刻蚀玻璃: $2- - +3 4 2SiO +4F +6H =SiF +3H O$­
B. 用三氯化铁溶液刻制覆铜电路板: $3+ 2+2Fe +3Cu=3Cu +2Fe$
C. 用硫代硫酸钠溶液脱氯: $2- 2- - +2 3 2 2 3S O +2Cl +3H O=2SO +4Cl +6H$的
D. 用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢中的硫酸钙: $2- 2-4 3 3 4CaSO +CO =CaCO +SO$
参考答案

D

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【答案】D
【解析】
【详解】A.玻璃的主要成分为SiO2,用氢氟酸刻蚀玻璃时,SiO2 和氢氟酸反应生成 SiF4 气体和水,反应
的方程式为 $SiO2+4HF=SiF4$↑+2H2O,A 错误;
B.Fe3+可以将Cu 氧化成 Cu2+,三氯化铁刻蚀铜电路板时反应的离子方程式为 $2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+$,B
错误;
C.氯气具有强氧化性,可以氧化硫代硫酸根成硫酸根,氯气被还原为氯离子,反应的离子方程式为S2O
$23-+4Cl2+5H2O=2SO 24-+8Cl-+10H+$,C 错误;
D.碳酸钙的溶解度小于硫酸钙,可以用碳酸钠溶液浸泡水垢使硫酸钙转化为疏松、易溶于酸的碳酸钙,
反应的离子方程式为 $2- 2-4 3 3 4CaSO +CO =CaCO +SO$,D 正确;
故答案选 D。

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